磁控溅射镀膜生产ZnO∶Al（AZO）薄膜的工艺探讨-玻璃杂志
章慕良目前主要的薄膜太阳能电池有：碲化镉（CdTe）系薄膜太阳能电池、硒铟铜（CIS）系薄膜太阳能电池、非晶硅系薄膜太阳能电池、晶硅系薄膜太阳能电池赵宝峰。研究人员研制出了价格低廉、原材料丰富、无毒且性能稳定的绒面ZnO∶Al陷光结构来作为薄膜太阳能电池的前电极。具有弹坑状绒面结构的AZO透明导电薄膜可以增强太阳光的散射作用，改善陷光效果，增加电池对太阳能的吸收量孟繁淼，提高薄膜太阳能电池的转换效率。磁控溅射镀膜工艺在玻璃衬底上制作AZO透明导电薄膜具有成膜速度快、膜层均匀、成膜面积大等优点，是较为合适的生产AZO薄膜的工艺方法。
磁控溅射镀膜工艺的基本原理：在密闭的真空腔室内放置有特殊设计的阳极和阴极，其中阴极装有溅镀材料林孝贤，在真空腔室充入常用的Ar、O2、N2等工艺气体；在外加电压的作用下工艺气体分子产生电离，形成等离子体。带正电的离子受到电场的作用飞向阴极，轰击靶材表面，轰击出的靶材原子以一定的速度沉积在所镀玻璃的表面形成薄膜工口漫画h。在靶材的选择上，目前由磁控溅射工艺生产透明导电薄膜AZO时所用靶材有两种类型：①陶瓷AZO靶材；②合金锌铝靶材典妾。应根据实际情况，选择适合本企业的靶材产品。在玻璃基板加热温度方面，研究表明：玻璃基板温度低北洋天下，薄膜原子在基板上运动能力差，降低成膜速度千帜雪 ，增加膜层的粗糙度汪汪快乐颂，减弱薄膜与玻璃基板之间的结合力黄拙吾，电阻系数升高。较高的玻璃基板温度幽灵进球，有利于薄膜生长，膜层光滑均匀，膜层太阳光透光率高，一般基片温度保持在200~300 ℃之间。在溅射气体压力的选择方面，磁控溅射的合适压力范围为1.33×10-1 Pa～1.33×10-2 Pa数量级，压力太高或太低米虫重奏曲，都不利于形成良好质量的AZO透明导电薄膜梦幻重生。
作为一种新的TCO材料，AZO相对于ITO和FTO有很大优势5801小炜 ，要大规模产业化还必须在如何降低设备及工艺成本上进一步研发。从根本上说，AZO薄膜的结构性能的好坏决定了其光电性能的优劣，必须在工艺参数上多做研究赵云传秘籍，实现高质量和低成本的双赢沈子钰 。
磁控溅射镀膜设备及工艺框图
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